微电子实验室用净化存储通风柜
1.该设备型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB为高洁净度通风保管柜，适用于半导体生产工艺过程中存放成品、半成品和材料等 。2.本设备主要由高效空气过滤 、通风机、电器控制系统、柜体、门等组成。3.柜体采用银白色喷砂电泳铝材作框架，拉丝不锈钢材料作面板，外形美观。4.工作区全部为拉丝不锈钢板， 四层搁架牢固可靠，前面安装有染色有机玻璃门5.主要指标：(1).净化级别：100级(2).平均风速（m/s）：0.25—0.45 (3).工作区尺寸920×350×1315mm(宽 ×深×高) (4.)外形尺寸1000×815×1850 mm(宽×深×高) (5).气流状态：气流为水平单向流，送风机具备两档转速，开门时，高速运行，平时低速运行。(6).振动：X、Y、Z方向≤5цm (7).噪声：≤64分贝(8).功率≤0.5kw有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
5. 半导体单晶圆片蒸发清洗线
本设备型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB适用于微电子半导体各尺寸硅晶圆片的清洗腐蚀，整体设备用料为德国进口磁白色聚丙烯（PP），经雕刻后组合焊接加工而成，门板采用德国透明聚氯乙烯（PVC）；腐蚀槽采用德国自然色聚偏二氟乙烯（PVDF）；清洗槽采用德国自然色聚丙烯板（NPP）；关健部件采用进口原器件。设备的腐蚀槽和清洗槽间的转换由进口SEW驱动，以迅速实现槽与槽之间的硅片转换。另外，此设备腐蚀槽还配有美国聚四氟乙烯加热器、虹吸上排、传感器。清洗槽配有溢流装置，和N2鼓泡装置。适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格，具体规格依客户工艺确定。有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
6. 半导体硅晶圆显影定影机
本设备型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB可用于半导体工艺中对各种规格尺寸硅晶片进行显影和定影，整台设备均采用德国进口PP材料，经雕刻后组合焊接加工而成。双排槽构成，每排7槽（根据工艺确定），各设一套机械手，两排可同时完成相应的工序。每槽装片能力：50片/批（2花篮，25片/花篮）。 工作区洁净度：100级。槽间工艺转换时间：Tm ax≤3.5S，工艺过程为全自动，全程PLC控制，触摸屏操作。结构设计合理，外型美观。适用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验湿台、腐蚀台。非标规格，具体规格依客户工艺确定。有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
7. 微电子实验室化学湿台腐蚀台
型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB整体采用德国进口磁白色PP板材料，经雕刻后组合焊接加工而成。每个清洗槽都可同时清洗腐蚀2个花篮。槽体材质具有良好的抗腐蚀抗酸性能。机械手在槽间的转换靠PLC来控制，美国进口导轨和机械手来满足工艺时序。设备操作过程全自动控制，人机界面为触摸屏，有安全保护故障代码，故障报警装置，全程PLC控制，触摸屏操作。大大节省人工工时，结构设计合理，外型美观。适合于高校化学实验室作实验设备，也可用于半导体微电子行业作清洗线。非标规格，具体规格依客户工艺确定。有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
8. LED行业晶片清洗腐蚀机
设备型号：CGB-XXXX—XX系列，品牌：华林嘉业—CGB整体采用德国进口磁白色PP板材料，经雕刻后组合焊接加工而成。操作面带有倾斜式推拉透明PVC门窗，由机架部分、箱体部分、电气部分、槽体部分、管路部分、抽风六部分构成。槽体部分七个槽位构成，槽体材质采用具有高防腐性能的进口PVDF材料（德国聚偏二氟乙烯槽）以及德国自然色聚丙烯槽（NPP）材料制作；管路部分是由上水和下水部分构成，为了保证工作介质（酸、碱）的洁净度和避免杂质析出，上水管材质为德国进口聚偏二氟乙烯（PVDF），气动隔膜泵为乔治•费歇尔，下水管件为GF，槽体配有喷淋系统、快排系统、美国进口氮枪、水枪各一支。另配照明装置和优质不锈钢地角、活动脚轮，全程PLC控制，触摸屏操作。结构设计合理，外型美观，经济耐用。用于微电子半导体行业，也适合于高校化学实验室作实验设备。非标规格，具体规格依客户工艺确定。有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
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供求商机详细资料 发布时间:2008-3-2 16:10:21 
