1.该线主要应用于CSTN-LCD示范生产线中对经过曝光后玻璃基片的工艺加工 2.用显影液处理玻璃表面,将经过光照射分解的光刻胶层(正性胶)除去,保留未曝光部分的光刻胶层。用化学方法使受UV光照射部分的光刻胶溶于显影液中 3.纯水水压要求:最少有1公斤/平方厘米的水压。纯水引入处须有流量仪显示耗水量。 4.显影机缸内应有温度上限保护装置,温度超过55℃时机器应报警,并停止显影部分机构即PLS机构,然后迅速开启冷却器进行降温处理。 5.所有单片式显影线内的液体都必须过滤。 6.有省水省电装置,在没有工件进入时应有电磁阀控制纯水引入、风刀鼓风机及部分液泵关闭。 7.监视器检查传送区内是否有玻璃卡板现象产生以控制输送马达,在出现故障时应有蜂鸣器报警。 8.药液喷洗室上盖均装有揭盖停机功能,以便机器在运行过程中保护操作者。 9.全线各工作室与传动部分采用隔离设计,避免传动齿轮磨损屑进入工作室及液缸内。 10.采用标准的PLC工业自动控制装置,全线所有控制器均采用数字显示。 11.所有鼓风机均配有空气过滤器;所有液泵抽水口也配有过滤器,以防杂质进入泵体内。在正常停机情况下,鼓风机将延时2分钟后停止,以驱散在静态下机体内之余热。 12.缓冲台要求在不停机情况下处理故障。传动机构应便于维护更换。
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