1）主要用于单、多晶硅太阳能电池
片生产,刻蚀后的清洗。
2）工艺流程：
上料→HF腐蚀+氮气鼓泡→QDR
+氮气鼓泡+喷淋→ 下料→离心机甩干
3）设备采用单臂机械手，其工艺时间可以
自行调节。能显示温度曲线、浓度变化
曲线，及各个工位的工作状态。酸槽具
有自动补液装置，可实现无间断生产。
具有设备报警说明，报警历史查询功能。
对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存
储10个以上工艺方案；
4）标准工艺下产量：125mm×125mm、
156mm×156mm、210mm×210mm
的硅片，厚度为160±30——200±30
微米的硅片，硅片产能不低于1200片/小时
设备开工率＞92﹪，碎片率≤3‰。
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供求商机详细资料 发布时间:2007-10-30 13:35:28 
